特征x射线_特征x射线

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特征x射线

特征x射线北京声迅电子股份有限公司取得一项名为“基于X光图像的违禁物品检测方法“授权公告号CN116958646B,申请日期为2023年6月。专利摘要显示,本发明提供一种基于X光图像的违禁物品检测方法,包括:获取待检测X光图像和对应的等效原子序数图像;将待检测X光图像输入特征单元检等我继续说。

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特征x射线和连续x射线的异同专利名为“基于X光图像的违禁物品检测方法”,专利申请号为CN202310690253.5,授权日为2024年1月30日。专利摘要:本发明提供一种基于X光图像的违禁物品检测方法,包括:获取待检测X光图像和对应的等效原子序数图像;将待检测X光图像输入特征单元检测模型得到第一检测图像;当还有呢?

特征x射线强度与什么有关万华化学集团股份有限公司取得一项名为“一种氧化亚硅负极材料及其制备方法“授权公告号CN114373915B,申请日期为2022年1月。专利摘要显示,本发明提供了一种氧化亚硅负极材料及其制备方法。所述氧化亚硅负极材料具有以下特征:对其进行铜靶X射线衍射分析,可以确定其包含等会说。

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≥▽≤ 特征x射线是怎么产生的所述晶体在X射线粉末衍射图谱中包含以下2θ反射角测定的特征峰:8.15±0.2°、16.84±0.2°、19.60±0.2°、20.88±0.2°、22.16±0.2°、24.48±0.2°。本发明的碘美普尔晶型Ⅱ与碘美普尔晶型Ⅰ相比具有引湿性低、振实密度大、纯度高、稳定性好等优点,为提高药物的安全性好了吧!

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特征x射线作用其X射线粉末衍射图谱在2θ值9.5±0.2°及14.1±0.2°处具有特征峰且具有一个或多个以下特征峰:15.4±0.2°、16.2±0.2°、19.1±0.2°、20.6±0.2°、21.8±0.2°、22.8±0.2°、25.1±0.2°、28.4±0.2°及32.2±0.2°;该晶体形式B制备方法简便,重现性好,对制备工艺以及存储小发猫。